1. カルボエトキシエチリデントリフェニルホスホラン
1.1. 一般情報、類義語
1.2. 組成、化学構造
1.3. 安全性情報
1.4. 危険有害性の特定
1.5. 取り扱いと保管
1.6. 毒性学的および生態学的情報
1.7. 輸送情報
2. カルボエトキシエチリデントリフェニルホスホランの用途
2.1. カルボエトキシエチリデントリフェニルホスホランの応用分野、川下製品
3. カルボエトキシエチリデントリフェニルホスホランの製造法
4. カルボエトキシエチリデントリフェニルホスホランの特許
概要
概要
発明の概要
発明の詳細な説明
5. 世界のカルボエトキシエチリデントリフェニルホスホラン市場
5.1. 一般的なカルボエトキシエチリデントリフェニルホスホラン市場の状況、動向
5.2. カルボエトキシエチリデントリフェニルホスホランのメーカー
– ヨーロッパ
– アジア
– 北米
– その他の地域
5.3. カルボエトキシエチリデントリフェニルホスホランのサプライヤー（輸入業者、現地販売業者）
– 欧州
– アジア
– 北米
– その他の地域
5.4. カルボエトキシエチリデントリフェニルホスホラン市場予測
6. カルボエトキシエチリデントリフェニルホスホラン市場価格
6.1. 欧州のカルボエトキシエチリデントリフェニルホスホラン価格
6.2. アジアのカルボエトキシエチリデントリフェニルホスホラン価格
6.3. 北米のカルボエトキシエチリデントリフェニルホスホラン価格
6.4. その他の地域のカルボエトキシエチリデントリフェニルホスホラン価格
7. カルボエトキシエチリデントリフェニルホスホランの最終用途分野
7.1. カルボエトキシエチリデントリフェニルホスホランの用途別市場
7.2. カルボエトキシエチリデントリフェニルホスホランの川下市場の動向と展望
Carbethoxy ethylidene triphenyl phosphorane [CAS 5717-37-3] は、化学合成において重要な中間体として知られている有機リン化合物である。この化合物は、一般にWittig試薬の一種として分類され、アルデヒドやケトンと反応してアルケンを生成する「Wittig反応」に用いられる。ここでの「Carbethoxy ethylidene」は、エチリデン基にカルボキシエチル基が付加された構造を指し、「triphenyl phosphorane」は三フェニルホスホラネを表す。したがって、Carbethoxy ethylidene triphenyl phosphoraneは、炭素骨格に基づいた特異的な構造をもち、特に医薬品や高分子材料の合成に有用である。
Carbethoxy ethylidene triphenyl phosphoraneは、通常は固体の形態で存在し、結晶性をもっている。物理的特性としては、一般的に白色から淡黄色の結晶固体で、水には不溶であるが、無水有機溶媒には可溶である。また、他のWittig試薬と同様に、空気中の湿気に対してはやや感受性があり、長期間の保存のためには不活性ガスの雰囲気下で保管する必要がある。
この化学物質の製造は通常、トリフェニルホスフィンと適切な活性メチレン化合物の反応によって行われる。この際に、アルカリ金属ヒドリドや有機塩基の存在下で反応が促進されることが多い。具体的な合成ルートは、原料や最終製品の目的に応じて各種の方法が開発されている。製造工程の技術的工夫や使用される溶媒の選択は、生成物の収率や純度に大きく影響を及ぼす。
Carbethoxy ethylidene triphenyl phosphoraneは、特に有意義な反応性を持つため、研究分野では新規な合成手法の開発において頻繁に参照される。例えば、π電子供与特性を生かした複雑な有機構造の構築や、光電変換材料の前駆物質としての応用も模索されている。そのため、この化合物に関する特許もいくつか存在し、特定の合成物質やその製造方法についての権利が主張されている。
安全性については、Carbethoxy ethylidene triphenyl phosphoraneは有機リン化合物であるため、適切な取り扱いが求められる。取り扱い中の吸入や皮膚接触を避けるために、常に保護具を着用することが推奨される。また、化学的分解によって生成される可能性のある副生成物についても考慮する必要がある。特に、高温条件下では分解する可能性があるため、使用環境の温度や反応条件には注意が必要である。
総じて、Carbethoxy ethylidene triphenyl phosphoraneは、化学合成において有用性の高い化合物であり、多様な有機合成に貢献している。その特異な反応性は、新規な材料の設計や機能性化合物の開発においても重要な役割を果たしており、関連する技術や特許は、今後もさらに拡充していくことが期待される。
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